Заявку на патент на набор ключевого оборудования для фотолитографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) подала компания Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE), 13 сентября сообщает американское интернет-издание о компьютерных технологиях Tom’s Hardware.

В заявке на патент значатся ключевые узлы фотолитографической машины, в том числе источник EUV-излучения (длина волны 13,5 нм),

Литографическое оборудование EUV используется для производства микросхем по наиболее тонким техпроцессам. Крупнейшие производители перешли на этот тип оборудования со второго поколения техпроцесса 7 нм.

Единственный поставщик промышленного оборудования этого типа — нидерландская компания ASML. Под давлением США она перестала поставлять в Китай передовые фотолитографические машины и компоненты к ним, а также прекратила обслуживание ранее поставленных систем.

В Китае есть свои производители литографических систем, и SMEE — одна из таких компаний. Но китайские производители оборудования сильно отстают от ведущих поставщиков. Сейчас SMEE выпускает оборудование для техпроцессов 90 — 280 нм. Также в компании заявили, что вскоре продемонстрируют оборудование для техпроцесс 28 нм.

EUV-машины — уже совсем другой класс. Хотя ранее в Китае подали заявку на патент на DUV-литографию для техпроцесса 3 нм, но такой подход не дает высокую производительность и сильно повышает стоимость изделий.